研究方向/领域 :

纳米激光设备、纳米加工、纳米薄膜材料与器件

1）新型微纳加工方法与激光直写设备；2）薄膜纳米器件制作方法研究；3） 纳微米传感器；4）新型super-RENS 光盘的研制。

服务企业、产业相关工作成效、研究成果与荣誉：

刘前，日本北海道大学工学博士。现为国家纳米中心博士生导师，二级研究员，国务院特殊津贴获得者。已主持和参与完成科研项目十余个，包括国家973、纳米重大研究计划、国家863、基金委纳米重大研究计划和科学院重点方向性项目等，已发表论160余篇，获得授权国际国内发明专利十余项。现为《Applied Physics》主编，十余个中外刊物的顾委和编委，澳大利亚科学研究委员会（ARC）国家基金项目的海外评审专家，国家奖励办、科技部项目、基金委项目及千人计划评审专家。  

研究成果与项目：

在新型纳米光刻技术上有一定突破，完成了第一台全新技术概念的纳米光刻机系统的研制工作，采用532激光可以做出远超衍射极限的50纳米的结构，突破了仅能使用光刻胶的限制。发展出了世界上第一套基于激光与物质相互缩小有效激光聚焦尺寸的全新技术路径的无掩模纳米光刻系统，突破了光学衍射极限的限制，首次达到了100纳米以下的加工分辨率，可采用多种材料作为受体，突破了现有材料只能用有机光刻胶的限制。